Разработка велась совместно с Shenzhen Litra Technology и знаменует отказ от использования глубокого ультрафиолета (DUV), монополистом которого выступает нидерландская ASML. Суть метода заключается в переносе наноструктур на кремниевую основу с помощью специального шаблона, действующего подобно типографскому прессу. Такой подход исключает необходимость в дорогостоящей оптике, критически важной для традиционных полупроводниковых заводов.
Технология ориентирована на фотонные чипы, обрабатывающие световые сигналы вместо электрических. Эти компоненты востребованы в производстве лазерных сенсоров, лидаров и высокоскоростных сетевых решений. Поскольку фотонные схемы состоят из повторяющихся структур, они идеально подходят для тиражирования методом наноимпринтинга. Несмотря на заявленную готовность к промышленным масштабам, Prinano пока не раскрывает данные о проценте выхода годных изделий, уровне брака или конкретных заказчиках, что оставляет вопросы о реальной коммерческой эффективности проекта.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!